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產(chǎn)品詳細(xì)介紹：可適用于高真空條件下對(duì)粉體材料的表面包覆鍍膜實(shí)驗(yàn)(更新日期2019.1.11）產(chǎn)品型號(hào)振動(dòng)樣品臺(tái)產(chǎn)品特點(diǎn)1、振動(dòng)樣品臺(tái)安裝在真空腔體底部2、粉末放置于樣品臺(tái)上

產(chǎn)品簡介：微型PECVD系統(tǒng)采用?3"×16"的石英腔體，內(nèi)部設(shè)有加熱圈對(duì)樣品進(jìn)行加熱，溫度可以達(dá)到400℃，且采用程序化控溫，系統(tǒng)還配有2通道混氣裝置和雙旋機(jī)械泵，整套系統(tǒng)安放于移動(dòng)架上，便于實(shí)驗(yàn)操作

產(chǎn)品簡介：鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成

產(chǎn)品簡介：VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

產(chǎn)品簡介：VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

產(chǎn)品簡介：OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐是一款快速蒸發(fā)管式爐，專門用于PVD或CSS法制作薄膜